【埼玉】新規商品開発

職務概要旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、TOPPANから独立しIPOを目指す、半導体用フォトマスク新会社での業務です。ヘッドマウントディスプレイ向け光学デバイスに使用されるナノインプリント用モールドの開発を主とした、シリコン等の微細加工の開発技術、プロセス設計、生産技術業務をご担当いただきます。
職務詳細・ナノインプリント等の微細加工関連製品の新規技術開発
・事業化を進めているナノインプリント用モールドの開発において、社内の開発能力、プロセスを踏まえ、海外を中心とした顧客への技術対応、仕様策定、社内の開発推進業務
・ナノインプリントや同社の持つ微細加工技術による新規開発業務
・微細加工装置や検査装置の導入／立上げ／プロセス開発や量産技術の構築
　※本人の経験や適性に応じて、業務範囲を決定します。
配属予定部署PM技術開発部　朝霞工場
※フォトマスクは、ガラス基板の遮光膜に非常に微細な回路パターンを形成したもので、複雑な半導体の回路をシリコンウェハに焼き付けるときの原版です。半導体用フォトマスクのほか、各種研究・開発用ガラスマスクや、シリコンステンシルマスク、ナノインプリント用モールドなどを開発・製造しています。 会社の特徴 半導体の地産地消の動きが広まる中、同社はグローバルな生産体制を構築している半導体用フォトマスクメーカーとして、
半導体用フォトマスクの外販市場におけるトップクラスのマーケットシェアを築いています。
そうした背景から同社は、半導体用フォトマスク市場拡大の波に乗る絶好のポジションにつけており、
更なる成長及び事業価値向上に向けこれまでにない好機が訪れています。
またこれまで以上に迅速かつ柔軟に研究開発投資及び設備投資を実行し、
外部環境の変化に対応しながら顧客のニーズを満たしていくことが求められているため、分社化を行いIPOを目標かつ重要な通過点に設定し、成長していきます。